半導体新材料の分野では、高性能化や新機能開発を目指す手段として、超格子（超薄膜積層構造）が注目されている。本書は、半導体超格子の基礎理論から作製法、評価法、さらには応用デバイスまでをコンパクトに体系化し、わかりやすく解説した入門書である。まず、半導体物性の基礎から説き起こす。続いて、本書の主題である人工格子の電子状態から、分子線エピタキシ法等の薄膜積層技術、電子線やＸ線を用いた構造評価法について、明快に説明していく。さらに、ＧａＡｌＡｓ／ＧａＡｓ超格子ほか各種超格子の、光特性や電気的特性等、基礎的性質を、系統だてて解説する。最後に、変調ドープトランジスタや共鳴トンネルデバイスといった応用デバイスについて、従来のものと比較して説明を加え、超格子を用いた新機能性デバイス開発に向けて今後の展望を与える。